产品介绍

　　公司以成熟的技术和稳定的工艺为您提供满意的产品，抛光革是采用精密的技术将聚氨脂和纤维织物合成的抛光材料，在抛光过程中具有弹性好，力道柔和，无划伤，无塌边的特点。例如，抛光后的磁钢汞晶片的厚度仅为8—10U，其精度之高可见一斑。为此，这就对抛光布提出非常苛刻要求；其表面微孔层既要满足碲镉汞晶片抛光的各项技术指标，同时。又要在其背面的胶粘剂层有优良的抗化学抛光液的能力，而保持足够的剥离强度等特点。多用于高精度镜面体的抛光。

　　公司生产销售的单层结构抛光革、双层结构抛光革，可以广泛应用于水晶、玻璃、不锈钢等产品的抛光，还可用于锗酸铋、砷化镓等半导体材料及彩电玻壳、煤片、单晶硅和多晶硅的抛光，应用前景良好。

　　规格：
　　单层结构抛光革 宽度 1000mm        厚度：0.8  1.0  1.2  1.5  1.8  2.0  2.5 mm
　　双层结构抛光革 宽度1380-1400 mm   厚度：1.2-1.4mm(精抛)

　　产品图片：